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株式会社 アルバック

コード/6728 市場/東証1部 売買単位/100 株
事業内容 真空装置・機器の製造及び販売等
基本事項 http://www.ulvac.co.jp
代表者名 中村久三 /S22 年生
本店所在地 神奈川県茅ヶ崎市
設立年 S27 年
従業員数 3,660人 ( 1/31現在)(連結)
株主数 990人 (目論見書より)
資本金 3,850,000,000円 (6/30現在)
上場時発行済株式数 37,428,438株
公開株数 9,710,000株(公募5,000,000株、売出4,710,000株)/1,000,000株 オーバーアロットメント含む
スケジュール (注)変更になる場合もあります
仮条件決定 3/30
ブックビルディング期間 4/1-4/7
公募価格決定 4/8
申込期間 4/12-4/15
払込期日 4/19
上場 2004/4/20
シンジケート 公開株数8,710,000株 (別に1,000,000株)/ 単位(株) 単位(%)
主幹事証券 野村 5,835,700 67.00
副幹事証券 みずほ 783,900 9.00
 幹事証券 大和SMBC 696,800 8.00
 幹事証券 丸三 435,500 5.00
 幹事証券 岡三 435,500 5.00
 幹事証券 UFJつばさ 261,300 3.00
 幹事証券 三菱 261,300 3.00
大株主 目論見書より 単位(株) 単位(%)
松下電器産業 特別利害関係者等 3,582,074 11.04
日本生命保険 特別利害関係者等 3,224,500 9.94
従業員持株会 特別利害関係者等 2,412,060 7.43
新星和不動産 特別利害関係者等 1,718,138 5.29
みずほ銀行 特別利害関係者等 1,604,200 4.94
日本トラスティー・サービス信託銀行 特別利害関係者等 1,604,200 4.94
UFJ銀行 特別利害関係者等 1,604,200 4.94
稲畑産業 特別利害関係者等 869,670 2.68
星光ビル管理 特別利害関係者等 734,712 2.26
みずほキャピタル ベンチャーキャピタル(ファンド) 701,128 2.16
業績動向(百万円) 売上高 経常利益 純利益
(連結実績) 2002.6 126,129 1,991 668
(連結実績) 2003.6 127,472 3,550 1,729
(連結予想) 2004.6 149,197 5,574 3,052
(単独実績) 2002.6 90,378 1,144 591
(単独実績) 2003.6 85,716 1,211 569
(単独予想) 2004.6 100,612 3,154 1,934
1株当たりの数値(円) EPS BPS 配当
(連結予想 ) 2004.6 81.54 1,388.58 20
(単独予想 ) 2004.6 51.67 975.21 20
調達資金使途 研究開発費、借入金返済
連結会社 連結子会社17社、持分法適用会社3社
参考類似企業 今期予想PER (3/26現)
4186  東京応化 26.4倍 (連結予想 )
6590  芝浦メカトロニクス 96.8倍 (連結予想 )
7731  ニコン 139.3倍 (連結予想 )
7735  大日本スクリーン 49.8倍 (連結予想 )
7751  キヤノン 16.1倍 (連結予想 )
8035  東京エレクトロン 280.4倍 (連結予想 )
8036  日立ハイテクノロジーズ 34.8倍 (連結予想 )
事業詳細
 真空総合メーカー。真空技術が利用されている様々な産業分野に多岐に渡る製品を生産財として提供している。
 主にディスプレイや半導体等の製造工程で使われる真空装置、エッチング装置、真空蒸着装置、真空ポンプや真空計等のコンポーネントの製造販売、並びに国内外での保守サービスを行っている。
 特に液晶ディスプレイ製造装置、プラズマディスプレイパネル装置、有機EL製造装置になどに強く、液晶ディスプレイ(フラット・パネル・ディスプレイ)製造装置は、東京エレクトロンと世界トップシェアを争っている。事業は2つある。
(1)真空関連事業
真空技術を基板として、真空装置・機器やサービスを提供しており、主要製品は以下の通り。
①ディスプレイおよび電子部品製造装置
 液晶ディスプレイ製造装置、プラズマディスプレイパネル装置、有機EL製造装置、電子部品製造装置、光学膜用スパッタリング装置
②半導体製造装置
 スパッタリング装置、エッチング装置、イオン注入装置、レジストリッピング装置、メ タルCVD装置、拡散炉、減圧CVD装置、酸化炉
③コンポーネント
 真空ポンプ、各種真空計、ヘリウムリークディテクタ、質量分析計、表面形状測定装置
④その他
 真空巻取蒸着装置、真空熱処理炉、真空焼結炉、凍結真空乾燥装置、超高真空装置
(2)その他の事業
真空技術の周辺技術を基板として、主に材料や表面解析等を提供しており、主要製品は以下の通り。
 先端材料(超微粒子、スパッタリングターゲット材他)、表面解析装置(熱分析、熱物性測定装置、オージェ電子分光分析装置他)、装置制御(各種産業機械用駆動装置、DCS制御装置)。
 前期連結売上高の構成比は、真空関連事業82.6%(ディスプレイおよび電子部品製造装置45.6%、半導体製造装置14.2%、コンポーネント14.2%、その他8.6%)、その他の事業17.4%。海外売上高比率(アジア中心)は39.3%。
 ジャスダック上場の昭和真空は同社の持分法適用関連会社。
 昨年4/8に東証上場予定であったが、株式市場の環境悪化を理由として、上場を延期した経緯あり。
仮条件 公募値 初値
2,000 円 ~ 2,200円 2,200円 4,100円
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